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CVD系統(tǒng)

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TiN, TiC, TiCN鍍膜(Thermal CVD)

產(chǎn)品功能

.近期發(fā)展起來的薄膜制備方法。采高溫?zé)岱纸馇膀?qū)氣體,通過調(diào)節(jié)前驅(qū)體組分對比和溫度,而獲得大面積高質(zhì)量沉積膜。

.系利用氣態(tài)物質(zhì)在固體表面進行反應(yīng)生成固態(tài)沉積物的過程,是一種在高溫下利用熱能進行熱分解和熱化合的沉積技術(shù)。


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詳情介紹

產(chǎn)品特色

.常壓或低壓下沉積。

.鍍層化學(xué)成分可調(diào),可獲得梯度沉積物或混合鍍層。

.密度、純度可調(diào)。

.繞鍍性佳,可在復(fù)雜基材及顆粒材料上沉積,如:帶槽、溝、孔或盲孔的工件。

.可鍍厚(10~20μm)。

.附著性佳。


可應(yīng)用范圍

? 刀具:車刀片、螺紋刀具、銑刀。

? 模具:(線材)拉伸模具、鍛造模、沖壓工具、剪切模具、擠型模具、鑄幣模具、壓接工具、彎管模具。


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