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常州等離子去光阻機PA01/PA03B

產(chǎn)品功能

快速去除晶圓上之殘留光阻，達到晶圓表面潔凈，蝕刻率同業(yè)更高


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詳情介紹

產(chǎn)品特色

．處理均勻性佳

．離子能量低、不損傷基板

．沒有電極及基板的污染

．高密度等離子源

   ＊等離子效率高、清潔效率高

   ＊可控制低的離子能量

   ＊結(jié)合化學反應性及物理撞擊性

．處理速度快、清潔效率高、可靠度高

．操作范圍廣

．可使用多種制程氣體

．全自動且容易操作

．設備穩(wěn)定高，容易維護

．可依客戶需求作更改


可應用范圍

．殘余光阻去除

．PSS 來料清潔制程


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