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東莞等離子去光阻機PA01/PA03B

產(chǎn)品功能

快速去除晶圓上之殘留光阻,達到晶圓表面潔凈,蝕刻率同業(yè)更高


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詳情介紹

產(chǎn)品特色

.處理均勻性佳

.離子能量低、不損傷基板

.沒有電極及基板的污染

.高密度等離子源

   *等離子效率高、清潔效率高

   *可控制低的離子能量

   *結(jié)合化學(xué)反應(yīng)性及物理撞擊性

.處理速度快、清潔效率高、可靠度高

.操作范圍廣

.可使用多種制程氣體

.全自動且容易操作

.設(shè)備穩(wěn)定高,容易維護

.可依客戶需求作更改


可應(yīng)用范圍

.殘余光阻去除

.PSS 來料清潔制程


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